科技行业资讯门户

广告

广告

广告

广告

广告

ASML考虑推出通用EUV光刻平台

【蜂耘网 激光光学】荷兰媒体 Bits&Chips 日前爆料ASML 正探讨推出通 EUV 光刻平台的可能性。该公司首席技术官、现担任顾问的马丁・范登布林克Martin van den Brink)于最近召开 imec ITF World 技术论坛发表讲话时透露ASML 计划在未来十年内打造一个集 Low NA0.33NAHigh NA0.55NA)以及预计达 0.7NA  Hyper NA 系统的单一平台。

 

img1

 

范登布林克指出,更高的数值孔径能提高光刻分辨率。他进一步解释说Hyper NA 光刻机将简化先进制程生产流程,避免因使 High NA 光刻机进行双重图案化导致的额外步骤及风险。

 

他强调,共享同一基础平台的多 EUV 光刻机会降低研发成本,并方便 Hyper-NA 机台的技术进步推广至数值孔径较小的光刻机。据悉ASML 最新款 0.33NA EUV 光刻 NXE:3800E 已采用 High NA 光刻机设计的高速载物台移动系统。

 

此外ASML 计划将 DUV  EUV 光刻机的晶圆吞吐量由目前的每小 200~300 片提升至每小 400~500 片,以提高单台光刻机的生产效率,进而降低行业成本。

 

img2

 

范登布林克在演讲中还提及,当前人工智能的发展趋势显示,消费者对多样化应用有强烈需求,但受限于能耗、计算能力和海量数据集等因素。

 

 

(蜂耘激光光学网 责任编辑:行云)

2024-05-23 11:35

广告

来源:微云疏影
荷兰媒体 Bits&Chips 日前爆料,ASML 正探讨推出通用 EUV 光刻平台的可能性。

声明:凡来源标明“蜂耘网”的文章版权均为本站所有,如需转载请务必注明出处,违者本网将追究相关法律责任;所有未标明来源为“蜂耘网”的转载文章目的在于传递更多信息,均不代表本网立场及观点,“蜂耘网”不对这些第三方内容或链接做任何保证或承担任何责任;如涉及版权等问题,请在内容发表之日起一周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。

所有评论仅代表网友意见,与本站立场无关

最新资讯

推荐阅读

热门排行

1、

2、

3、

4、

5、

6、

7、

8、

专题推荐

人物访谈

  • 一文了解查理·芒格:为什么他是巴菲特最推崇的人

    来源:
    ①巴菲特写道,“如果没有查理的灵感、智慧和参与,伯克希尔-哈撒韦公司不可能发展到今天的地位”;
    ②芒格曾表示,“如果世上未曾有过查理·芒格这个人,巴菲特的业绩依然会像现在这么漂亮 ”
    ③两周前,芒格还公开在节目中维护93岁的老友巴菲特。

    41 2023-11-29
  • 面壁者,拉里·佩奇

    来源:中欧商业评论
    这两年,硅谷钢铁侠埃隆·马斯克在社交媒体上口无遮拦,这为他的公司引来了铺天盖地的负面新闻,然而,他的好友、谷歌联合创始人拉里·佩奇却因为看不到人同样被媒体炮轰多时。他已经在公共视野中消失太久了。

    152 2022-06-15
  • 百岁中科院院士文圣常逝世!被誉为我国海浪研究的“点灯人”

    来源:南方都市报
     3月21日上午,中国海洋大学发布讣告,中国科学院院士、著名物理海洋学家、该校教授文圣常,因病医治无效,于3月20日15时37分在山东青岛逝世,享年101岁。

    170 2022-03-21

会议活动

微信公众号

广告

相关新闻