国产电子束光刻机“羲之”在杭州进入应用测试阶段

【蜂耘网 资讯】浙江大学余杭量子研究院自主研发的电子束光刻机“羲之”已在杭州进入应用测试阶段。该设备作为国内首台商业化电子束光刻系统，定位精度达0.6纳米，最小线宽为8纳米，性能指标达到国际主流设备水平。

这台设备采用100千伏高能电子束，可直接在硅基材料表面进行电路“书写”，无需传统光刻工艺中的掩膜版辅助。其工作模式类似精密笔触在纳米尺度绘制电路图案，尤其适用于芯片设计初期的反复修改与验证环节。

“羲之”的命名取自中国书法家王羲之，体现其电子束在芯片上精密刻写的能力。设备外观为大型钢柜结构，内部集成实时参数监测系统。研发团队将其功能比喻为“在发丝表面雕刻整座城市地图的纳米级工具”。

该设备主要面向量子芯片与新型半导体器件研发。在量子芯片开发过程中，设计验证阶段常需频繁调整电路图案，传统光刻技术因掩膜版制作周期长、成本高而限制研发效率。“羲之”的电子束直写能力可实现设计图案的即时修改，大幅缩短研发迭代周期。

此前受国际出口管制影响，中国科学技术大学、之江实验室等科研机构长期无法获取同类高端设备。“羲之”的商用化填补了国内该领域的技术空白，其定价低于国际同类产品均价。目前该设备已与多家科研机构及企业开展合作洽谈。

技术突破依托于杭州城西科创大走廊的成果转化机制。今年七月启动的省级教育科技人才改革试点项目中，浙江大学与余杭区共建“需求清单-揭榜攻关-全程陪跑”模式，通过企业提出需求、高校团队揭榜攻关、政府全流程支持的方式，打通实验室技术到产业化产品的转化通道。

在产业应用层面，电子束光刻技术虽无法替代传统光刻进行大规模芯片量产，但对前沿芯片研发具有关键作用。该设备可支持量子比特器件、新型存储芯片等领域的原型开发，为国内高端芯片研发提供自主可控的基础工具支撑。

随着“羲之”进入应用测试阶段，国内量子芯片研发体系获得关键设备补充。该设备的成功开发标志着高端半导体设备国产化取得新突破，为后续技术迭代与产业生态建设奠定基础。

（蜂耘资讯网 责任编辑：科技蜜）